泰勒霍普森轮廓仪 CCI MP-HS 是一款高性能的非接触式光学轮廓仪，具有测量精度高、功能多样、操作简便等特点，以下是详细介绍：

主要特点：

高速测量：配备一百万高速相机，扫描速度高达 100 微米 / 秒，在高速测量时可减少丢失点、降低环境影响，保证测量结果的准确性。

高分辨率：拥有 1048×1048 像素阵列，结合 1/10 埃垂直分辨率，无论是粗糙还是光滑表面，都能获得详细分析。

测量模式简便：采用单一扫描模式，凭借的 “相干相关" 算法，可在任意扫描范围内实现亚埃级分辨率，无需因不同表面而切换复杂模式。

抗振抗噪：整合抗振功能，优化抗噪性能，减少环境干扰导致的测量不确定性，数据质量更稳定。

节能环保：主机耗电仅有 250W，在同类产品中耗电低，且不需要任何消耗品，无排放，不污染环境。

技术参数：

拼接功能：具备高级 X、Y、Z 拼接功能，可扩展量程，能应对大尺寸工件的全域表面分析。

重复精度：RMS 重复精度 < 0.2 埃，阶跃高度重复精度 < 0.1%，测量稳定性高。

软件系统：搭载多语言版本的 Windows 64 位软件，操作界面友好，方便不同地区用户使用。

应用领域：可广泛应用于半导体制造、光学元件加工、精密机械、航空航天等领域。能满足实验室级别的科研分析，也适用于工厂生产线的批量质检，可测量玻璃、金属、聚合物等多种材料，以及抛光表面、粗糙表面、曲面等多种类型的表面。

与 CCI MP 的对比：两者均为非接触式 3D 轮廓仪，都有 1048×1048 像素阵列，具备高分辨率与广视场特点，RMS 重复精度均 < 0.2 埃，阶跃高度重复精度均 < 0.1%，且都搭载多语言 Windows 64 位软件。但 CCI MP-HS 在扫描速度上更具优势，拥有一百万高速相机且扫描速度达 100 微米 / 秒；在拼接功能上描述为高级 X、Y、Z 拼接；还特别强调了整合抗振和优化抗噪性能。而 CCI MP 则突出采用新型关联算法查找干涉图相干峰和相位，转台可同步装配多种标的物，其新型 X、Y、Z 拼接量程可达 100 毫米，且明确提到全量程埃级分辨率。