COULOSCOPE CMS2 可精准测定众多常见的单层和多层镀层，在质量控制环节发挥着关键作用。

库仑法具备显著的成本效益优势，在可接受破坏性测量的前提下，是 X 射线荧光法的精准替代方案。该方法适用范围广泛，可应对丰富多样的镀层组合，常用于电镀镀层的质量把控，以及监测印刷电路板上残余纯锡的厚度。

STEP 测试：镀层厚度与电化学电位的双重测量

若需在测量镀层厚度的同时获取电化学电势数据，COULOSCOPE CMS2 STEP 。其采用的 STEP 测试方法，能够同步测量多层镍镀层的电位差与镀层厚度，这一特性使其成为测定此类镀层腐蚀行为的理想工具。

产品特性

高精度测量：运用库仑法，实现多层金属镀层厚度的高精度测量。

标准合规：依据 DIN EN ISO 2177 标准开展测量工作。

操作便捷：通过彩色显示屏与图形化用户指南，操作直观易懂。

参数可调：可灵活选择电解速度（0.1 - 50 微米 / 分钟）和电解面积（0.6 - 3.2mm）。

预设应用丰富：针对不同镀层系统，如铁上镀锌、黄铜上镀镍等，预设近 100 种测量应用。